中微公司：减压外延设备已付运到先进制程客户端进入量产验证阶段，常压外延设备也在进入晶圆验证阶段
金十数据 11 月 2 日讯，中微公司在分析师会议表示，PECVD 及 CuBS PVD 是薄膜沉积设备中价值占比高的产品。公司的 PECVD 设备具备 16 个反应台配置，采用了最新的等离子体源，具有更高的沉积速度，输出量较国内外标配设备提升 80%到 100%。PECVD 氮氧叠层、碳掩膜等新品在客户端顺利验证中。公司的 CuBS PVD 设备配置 14 个反应腔、对称双路径设计，相较国内外标配设备大幅降低 BS 的电阻率，输出率提升 50%至 100%，获得多家头部客户认可，并已交付至国内先进逻辑器件研发线验证中。EPI 设备是先进逻辑工艺中非常关键的设备，公司的减压外延设备已付运到先进制程客户端进入量产验证阶段，常压外延设备也在进入晶圆验证阶段。